Co: Spinellkristalle
Passive Q-Schalter oder sättigbare Absorber erzeugen Hochleistungslaserpulse ohne Verwendung elektrooptischer Q-Schalter, wodurch die Gehäusegröße verringert und eine Hochspannungsversorgung entfällt. Co2 +: MgAl2O4 ist ein relativ neues Material für die passive Güteschaltung in Lasern mit einer Emission von 1,2 bis 1,6 μm, insbesondere für augensichere 1,54 μm Er: Glaslaser, arbeitet jedoch auch bei Laserwellenlängen von 1,44 μm und 1,34 μm. Spinell ist ein harter, stabiler Kristall, der gut poliert. Kobalt ersetzt Magnesium im Spinellwirt leicht, ohne dass zusätzliche Ladungskompensationsionen erforderlich sind. Der hohe Absorptionsquerschnitt (3,5 × 10-19 cm2) ermöglicht das Q-Schalten des Er: Glaslasers ohne Intracavity-Fokussierung sowohl mit Blitzlampen- als auch mit Diodenlaserpumpen. Eine vernachlässigbare Absorption im angeregten Zustand führt zu einem hohen Kontrastverhältnis des Q-Schalters, dh das Verhältnis von anfänglicher (kleines Signal) zu gesättigter Absorption ist höher als 10.
Eigenschaften:
• Geeignet für augensichere 1540-nm-Laser
• Abschnitt mit hoher Absorption
• Vernachlässigbare Absorption im angeregten Zustand
• Hohe optische Qualität
• Gleichmäßig verteilte Co.
Anwendungen:
• Augensicherer 1540 nm Er: Glaslaser
• 1440 nm Laser
• 1340 nm Laser
• Augensicherer Laser-Entfernungsmesser
| Chemische Formel | Co.2+: MgAl2O4 |
| Kristallstruktur | Kubisch |
| Gitterparameter | 8,07 Å |
| Dichte | 3,62 g / cm3 |
| Schmelzpunkt | 2105 ° C. |
| Brechungsindex | n = 1,6948 bei 1,54 um |
| Wärmeleitfähigkeit / (B · cm-1· K.-1@ 25 ° C) | 0,033 W. |
| Spezifische Wärme / (J · g-1· K.-1) | 1,046 |
| Wärmeausdehnung / （10-6 / ° C bei 25 ° C） | 5.9 |
| Härte (Mohs) | 8.2 |
| Extinktionsverhältnis | 25dB |
| Orientierung | [100] oder [111] <± 0,5 ° |
| Optische Dichte | 0,1-0,9 |
| Schadensschwelle | > 500 MW / cm2 |
| Dotierungskonzentration von Co.2+ | 0,01-0,3 atm% |
| Absorptionskoeffizient | 0 ～ 7 cm-1 |
| Arbeitswellenlänge | 1200 - 1600 nm |
| Beschichtungen | AR / AR @ 1540 ≤ R <0,2%; AR / AR @ 1340 ， R <0,2% |
| Orientierungstoleranz | <0,5 ° |
| Dicken- / Durchmessertoleranz | ± 0,05 mm |
| Oberflächenebenheit | <λ/8@632 nm |
| <λ @ 632 nm <> | <λ/4@632 nm |
| Wellenfrontverzerrung | <λ @ 632 nm <> |
| Oberflächenqualität | 10〞 |
| 10/5 | Parallel |
| Aufrecht | 5ˊ |
| Blende löschen | > 90% |
| Fase | <0,1 × 45 ° |
